現(xiàn)階段,硬脆材料切割技術(shù)主要有外圓切割、內(nèi)圓切割和線銘切割。外圓切割組然操作簡單,但據(jù)片剛性差,切割全過程中鋸片易方向跑偏.造成被切割工們的平面度差;而內(nèi)圓切割只有進行直線切割,沒法進行斜面切割。線鋸切割技術(shù)具備割縫窄、率、切成片、可進行曲線圖切別等優(yōu)點成為口前普遍選用的切割技術(shù)。
在過去三十年期間,切片(dicing)系統(tǒng)與刀片(blade)已經(jīng)不斷地改進以對付工藝的挑戰(zhàn)和接納不同類型基板的要求。新的、對生產(chǎn)率造成大影響的設(shè)備進展包括:采用兩個切割(two cuts)同時進行的、將超程(overtravel)減到小的雙軸(dual-spindle)切片系統(tǒng)。
在許多晶圓的切割期間經(jīng)常遇到的較窄跡道(street)寬度,要求將每一次切割放在跡道中心幾微米范圍內(nèi)的能力。這就要求使用具有高分度軸精度、高光學放大和對準運算的設(shè)備。當用窄跡道切割晶圓時的一個常見的推薦是,選擇盡可能薄的刀片??墒牵鼙〉牡镀?20μm)是非常脆弱的,更容易過早破裂和磨損。結(jié)果,其壽命期望和工藝穩(wěn)定性都比較厚的刀片差。對于50~76μm跡道的刀片推薦厚度應(yīng)該是20~30μm。
頂面碎片(TSC, top-side chipping),它發(fā)生晶圓的頂面,變成一個合格率問題,當切片接近芯片的有源區(qū)域時,主要依靠刀片磨砂粒度、冷卻劑流量和進給速度。背面碎片(BSC, back-side chipping)發(fā)生在晶圓的底面,當大的、不規(guī)則微小裂紋從切割的底面擴散開并匯合到一起的時候(圖1b)。當這些微小裂紋足夠長而引起不可接受的大顆粒從切口除掉的時候,BSC變成一個合格率問題。
切片工藝變得越來越且要求高。切割跡道變得越窄,可能充滿測試用衰耗器(test pad),并且刀片可能需要切割由不同材料制成的各種涂敷層。在這些條件下達到大的切片工藝合格率和生產(chǎn)率要求認真的刀片選擇和的工藝控制能力。
一種全自動晶圓劃片機,包括機架,機架的一側(cè)設(shè)置有激光器,激光器的下方設(shè)置有旋轉(zhuǎn)劃片工作臺,其特征在于:機架的另一側(cè)設(shè)置有自動放收料裝置,自動放收料裝置的旁側(cè)設(shè)置有理料機構(gòu),自動放收料裝置與理料機構(gòu)之間連接有夾料機械手,理料機構(gòu)與劃片工作臺之間設(shè)置有兩組相互錯位的吸料機械手。
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