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美國(guó)光刻膠SU-8Developer顯影液沖洗液質(zhì)量?jī)?yōu)
廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠顯影時(shí)間需根據(jù)膠層厚度調(diào)整,推薦強(qiáng)烈攪拌3分鐘顯影后需用新鮮溶液沖洗10秒,再用(IPA)噴洗10秒適配SU-8光刻膠的垂直側(cè)壁和高深寬比圖形?顯影液pH值11.2,定影液pH值4.8灰霧度≤0.3,均勻斜率≥2.0,感光度≥35.0,大密度≥3.0?適用場(chǎng)景?
2025年08月31日 11:26:15
美國(guó)光刻膠SU-81000系列增強(qiáng)溫度水油兩用光刻膠安全環(huán)保材質(zhì)
廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠SU-8 1000系列是一種基于環(huán)氧樹(shù)脂的?負(fù)性光刻膠?,通過(guò)紫外光曝光引發(fā)交聯(lián)反應(yīng),形成高深寬比結(jié)構(gòu)。其核心成分為EPON SU-8樹(shù)脂、溶劑(如環(huán)戊酮或丙二醇醚醋酸酯)及光敏劑三芳基锍鹽?溫度增強(qiáng)特性?:該系列通過(guò)優(yōu)化樹(shù)脂交聯(lián)密度,可在
2025年08月31日 11:15:29
美國(guó)光刻膠stripperA去膠液光刻膠剝離液溶解性好
廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠可去除正性光刻膠(如AZ系列)及灰化后的光刻膠殘留,但對(duì)負(fù)性膠(如SU-8)的溶解性未明確提及。??理化性質(zhì)?:同類產(chǎn)品通常為無(wú)色至淡黃色透明液體,密度1.0-1.05g/ml,呈弱堿性(pH 10.6-10.9)?工藝參數(shù)?(參考行業(yè)標(biāo)準(zhǔn))?溫度?:常溫
2025年08月31日 11:00:51
美國(guó)光刻膠su-82000光刻膠薄膜制備電磁涂層
廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠近UV加工?:適用于350-400nm波長(zhǎng)曝光,光吸收均勻性,適合厚膜圖形化?工藝優(yōu)化?:揮發(fā)性溶劑含量降低,減少表面張力,改善涂覆效果前烘后自平整能力強(qiáng),減少邊緣水珠效應(yīng),提升掩模版與光刻膠的接觸精度作為?基底或模板?:通過(guò)光刻工藝
2025年08月31日 10:47:25
美國(guó)光刻膠電子束光刻膠495PMMAKAYAKUMicrochem納米級(jí)結(jié)構(gòu)
廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠?分辨率?:可達(dá)?10nm以下?,適用于納米級(jí)結(jié)構(gòu)制造。?敏感度?:典型電子束曝光劑量范圍為?50-150mJ/cm2?,具體需根據(jù)分子量和配方調(diào)整。?粘度?:通常為?1-20cps?(厘泊),低粘度設(shè)計(jì)便于旋涂成膜,膜厚可通過(guò)轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)(每增加1000rpm減
2025年08月31日 10:33:01
美國(guó)光刻膠DOWPDMS液態(tài)硅膠電子級(jí)灌封膠規(guī)格
廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠材料類型?:PDMS(聚二甲基硅氧烷)?流動(dòng)性?:低粘度設(shè)計(jì)(典型值1400±300mPa.s),便于灌注復(fù)雜電子部件?耐溫范圍?:-65℃至200℃(類似產(chǎn)品SYLGARD 184的參考數(shù)據(jù))?絕緣性能?:體積電阻率≥1.4×101?Ω·cm,介電強(qiáng)度≥18KV/mm??固化方式?:
2025年08月31日 10:24:10
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