廈門光刻膠   電子束光刻膠

1. 國(guó)產(chǎn)PMMA可實(shí)現(xiàn)?5–10 nm小線寬?，適用于納米級(jí)電子器件制造，分辨率與進(jìn)口產(chǎn)品相當(dāng)

2. ?分子量定制化?
   覆蓋?70K–950K全分子量范圍?（如350K標(biāo)準(zhǔn)品），通過(guò)調(diào)節(jié)分子量平衡靈敏度與分辨率

3. ?工藝兼容性?
   支持單層/雙層曝光、碳納米管轉(zhuǎn)移及剝離工藝（lift-off），顯影后圖案?jìng)?cè)壁陡直

4. ?物理性能?
   高透明度（可見光透過(guò)率>90%）、化學(xué)穩(wěn)定性，耐等離子刻蝕性弱于HSQ但滿足常規(guī)微加工需求