美國光刻膠FUTURREX負性光刻膠NR26-12000P耐高溫

廈門光刻膠 美國光刻膠半導(dǎo)體封裝中的高溫回流焊。MEMS器件耐高溫結(jié)構(gòu)層制作負性光刻膠通常用于倒裝芯片封裝、金屬電極圖形化等場景

2025年09月02日 14:58:26

美國光刻膠電路板蝕刻液電子材料低酸好操作蝕刻速度快

廈門光刻膠 美國光刻膠銅蝕刻液的典型蝕刻速率為?4~5μm/min?，部分優(yōu)化配方在佳條件下可達?14.42μm/min?46。??關(guān)鍵參數(shù)??溫度影響?：操作溫度建議控制在?50℃左右?，過高可能導(dǎo)致酸霧揮發(fā)，過低則降低蝕刻效率參數(shù)??鉻蝕刻液??銅蝕刻液（通用型）??AU蝕刻??蝕

2025年09月02日 14:42:11

美國光刻膠JSRWPR5100濕法腐蝕光刻膠垂直性好耐高溫

廈門光刻膠 美國光刻膠JSR WPR5100是一款專為濕法腐蝕工藝設(shè)計的光刻膠產(chǎn)品，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體和顯示器件制造領(lǐng)域。該產(chǎn)品以?的垂直性?和?耐高溫性能?著稱，特別適合需要刻蝕的工藝場景。核心特性具有?高深寬比?特性，能夠?qū)崿F(xiàn)良好的側(cè)壁垂直度在濕法腐蝕工藝

2025年09月02日 14:35:59

美國光刻膠精密電子蝕刻液適用于各種金屬

廈門光刻膠 美國光刻膠?在覆銅板表面覆蓋抗蝕膜，留出需要保留的線路圖案通過化學(xué)反應(yīng)溶解未被抗蝕膜保護的金屬部分終撕下抗蝕膜，露出所需電路圖案??：可實現(xiàn)微米甚至納米級別的加工精度?高分辨率?：能夠制造復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)?蝕刻速度快?：適合大面積蝕刻，成

2025年09月02日 14:26:57

美國光刻膠SPR220-3.07.0環(huán)氧樹脂光刻膠

廈門光刻膠 美國光刻膠工藝適配性??顯影液?：未明確提及顯影液，但同類環(huán)氧樹脂光刻膠通常使用MIBK混合溶液或2.38% TMAH溶液?后烘條件?：參考通用工藝，建議后烘溫度為90-120℃，時間1-2分鐘，需避免超過光刻膠熔點（約130-150℃）?存儲要求?：需避光、低溫（≤2

2025年09月02日 14:20:56

二手徠卡全站儀回收閑置徠卡全站儀二手處理收購

在工程測量領(lǐng)域，徠卡（Leica）全站儀始終是精O(∩_∩)O準(zhǔn)與可靠的代名詞。然而，隨著技術(shù)迭代與項目需求變化，許多企業(yè)面臨設(shè)備閑置、維護成本高、資產(chǎn)閑置等難題。[重慶租個量]作為行業(yè)領(lǐng)O(∩_∩)O先的測繪儀器回收服務(wù)商，專注徠卡全站儀回收！ 為什么選

2025年09月02日 13:54:35